電子級介面活性劑

電子級介面活性劑

為低金屬含量的界面活性劑,用來添加於各種製程的液體及塗料中,可降低表面張力,改善濕潤,平整及控制流量的特性。

例如:在半導體產業中,可改善金屬蝕刻液及其他水相的微電子製程中化學物質(如低 pH溶液)的穿透性。也可作為光阻、光阻去除劑、晶片邊緣水珠去除液、抗反射塗料及旋轉式塗佈玻璃膜中的潤濕劑。

Novec 電子界面活性劑配方採用永續化學技術,可溶性極佳,容易混合,金屬含量低,可重覆連續過濾。

陰離子型-Novec? 4200,4300

簡介:

Novec? 4200是陰離子界面活性劑,由25%氟烷基磺酸亞醯胺銨鹽+75%水組成;適合用於緩衝型氫氟酸及稀釋型氫氟酸、起泡少,金屬含量超低(<500ppb)。
另外,也可以加入去離子水做沖洗潤濕使用。

Novec? 4300是陰離子界面活性劑,由20%氟烷基磺酸胺+80%冰醋酸所組成,在低PH值的溶液中還能維持低表面張力。適合用於磷酸、醋酸、硝酸等混合酸【PAN】的金屬蝕刻液,也可作為鉻酸霧滴抑制劑,金屬離子含量<30 ppm。


適用:

建議添加量為0.02%-0.2%,可將溶液系統的表面張力降至18-35 dyne/cm為精密清洗用界面活性劑,適合半導體及相關製程。


產品特色與優點:

1.只需低濃度就有很好的效果
2.對蝕刻率的影響很小,幾乎沒有影響
3.泡沫少
4.可過濾
5.低表面吸附量

物性
  Novec? 4200 Novec? 4300
外觀 澄清透明液體 淺黃色液體
比重 1.14g/cc 1.1g/cc
粘度 1 1.2cp
組成 氟烷基磺酸亞醯胺銨鹽25%
水75%
氟烷基磺酸胺20%
冰醋酸80%
金屬含量 <500ppb <30ppm